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狈颁搁脱硝技术氨耗量和氨逃逸的影响分析

日期:2023-07-17 信息来源:本站

    狈颁搁脱硝技术氨耗量和氨逃逸的影响分析


    在脱硝反应过程中烟气中存在着没有参与反应的氨通过反应器排放到烟气中的现象叫氨逃逸。氨逃逸可能会导致如下的几个问题:易使下游装置如空气预热器积灰堵塞,造成压损升高以及低温腐蚀等问题;影响飞灰的品质,导致电除尘器极线积灰或布袋除尘器糊袋等问题;形成可见烟柱,增加笔惭2.5的排放;释放到大气中会对人体健康带来负面影响。


    所以,应用脱硝技术的目标是最大程度的降低NOx浓度,同时控制氨耗量,实现最小的氨逃逸。


    影响SNCR技术性能的主要因素包括:烟气组成、烟气量、氨氮摩尔比NSR值、反应温度、处理前烟气中NOx浓度、烟气氧量、还原剂与烟气的混合程度等。其中运行过程中影响氨耗量和氨逃逸最重要的3个因素是:反应温度、还原剂与烟气的混合程度和NSR值。


    分析仪采用TDLAS技术(可调谐半导体激光光谱吸收技术TunableDiodeLaserAbsorptionSpectroscopy),为目前国际最先进的气体测量方法之一,该仪表具有灵敏度高、响应速度快、不受背景气体干扰、非接触式测量等特点,为实时准确地反映NH3变化提供了可靠保证。


    天美麻花星空视频mv生产的TK-1100型氨逃逸在线监测系统采用高温伴热抽取技术+罢顿尝础厂技术(可调谐半导体激光光谱吸收技术),对脱硝过程中的逃逸氨进行连续在线监测,主要应用于众多工业领域气体排放监测和过程控制,如燃煤发电厂、铝厂、钢铁厂、冶炼厂、垃圾发电站、水泥厂和化工厂、玻璃厂等。


    产物特点:


    1.先进的可调谐半导体激光光谱吸收技术;
    2.可靠的长光程加热气室设计,光程可达760mm;
    3.超低浓度测量,分辨率可达0.1ppm;
    4.半导体激光的谱宽小于0.001nm,避免粉尘和水分交叉干扰;
    5.设备维护简单,使用成本低。


氨逃逸

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