半导体市场30年的创新
    我们的团队致力于超痕量分析的改进。为此我们设计了许多新技术，获得了180多项专利和多项突破。
　　
　　1992
    K2000: 第一台数字式痕量氮分析仪的所有者伊夫-加马奇（Yves Gamache）
　　
　发明了碍2000，这是一种小型的、重量轻的分析仪，优于当时所有市场上的仪器，震惊了当时的气体分析和色谱行业。
　　
　　1995
    The K2001: 下一代分析仪Yves Gamache继续开发一系列颠覆性技术包括K2001。这是该领域的一次重大飞跃，N2分析仪在全球范围内取得了立竿见影的成功，30年后，它仍然是现在市场的标杆。
　　
　　1997
    K2002: 获得无与伦比的检出限一种新的设计使K2001的检出限成为业内最佳，然后成为K2002。由于我们的声誉和业绩记录，K2002在半导体行业取得了立竿见影的成功。
　　
　　2000
    K4000: 半导体痕量N2和Ar分析的标杆基于独特的等离子体发射检测器和可以分离Ar和O2的突破性色谱柱。K4000成为行业中的标杆，检出限<1 ppb。
　　
　　2007
    AFP: 改进气相色谱阀Controcirc Analytique被出售给Servomex UK后，团队开始专注于创新型新阀门的开发,这些阀门诞生了一家名为Analytical Flow Products（AFP）的公司。
　　
　　2017
    ASDevices诞生了-结合了30年的知识我们结合了30年的超痕量分析经验，创造了新的知识产权和创新的产物组合，彻底改变了这个市场，为我们的长期客户带来了更好的解决方案。